Japanese Journal Of Applied Physics SCIE

國際簡稱：JPN J APPL PHYS 參考譯名：日本應(yīng)用物理學(xué)雜志

主要研究方向：物理-物理：應(yīng)用非預(yù)警期刊審稿周期：約2.0個月

《日本應(yīng)用物理學(xué)雜志》(Japanese Journal Of Applied Physics)是一本由Japan Society of Applied Physics出版的以物理-物理：應(yīng)用為研究特色的國際期刊，發(fā)表該領(lǐng)域相關(guān)的原創(chuàng)研究文章、評論文章和綜述文章，及時報道該領(lǐng)域相關(guān)理論、實踐和應(yīng)用學(xué)科的最新發(fā)現(xiàn)，旨在促進該學(xué)科領(lǐng)域科學(xué)信息的快速交流。該期刊是一本未開放期刊，近三年沒有被列入預(yù)警名單。

4區(qū) 中科院分區(qū)
Q3 JCR分區(qū)
839 年發(fā)文量
1.5 IF影響因子
未開放 是否OA
116 H-index
1962 創(chuàng)刊年份
Monthly 出版周期
English 出版語言

The Japanese Journal of Applied Physics (JJAP) is an international journal for the advancement and dissemination of knowledge in all fields of applied physics. JJAP is a sister journal of the Applied Physics Express (APEX) and is published by IOP Publishing Ltd on behalf of the Japan Society of Applied Physics (JSAP).

JJAP publishes articles that significantly contribute to the advancements in the applications of physical principles as well as in the understanding of physics in view of particular applications in mind. Subjects covered by JJAP include the following fields:

? Semiconductors, dielectrics, and organic materials

? Photonics, quantum electronics, optics, and spectroscopy

? Spintronics, superconductivity, and strongly correlated materials

? Device physics including quantum information processing

? Physics-based circuits and systems

? Nanoscale science and technology

? Crystal growth, surfaces, interfaces, thin films, and bulk materials

? Plasmas, applied atomic and molecular physics, and applied nuclear physics

? Device processing, fabrication and measurement technologies, and instrumentation

? Cross-disciplinary areas such as bioelectronics/photonics, biosensing, environmental/energy technologies, and MEMS

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Japanese Journal Of Applied Physics期刊信息

ISSN：0021-4922
出版語言：English
是否OA：未開放
E-ISSN：1347-4065
出版地區(qū)：JAPAN
是否預(yù)警：否
出版商：Japan Society of Applied Physics
出版周期：Monthly
創(chuàng)刊時間：1962
開源占比：0.0648
Gold OA文章占比：9.51%
OA被引用占比：0.0835...
出版國人文章占比：0
出版撤稿占比：0
研究類文章占比：93.80%

Japanese Journal Of Applied Physics CiteScore評價數(shù)據(jù)（2024年最新版）

CiteScore

SJR

SNIP

CiteScore 指數(shù)

0.307

0.631

學(xué)科類別	分區(qū)	排名	百分位
大類：Engineering 小類：General Engineering	Q2	119 / 307	61%
大類：Engineering 小類：General Physics and Astronomy	Q2	108 / 243	55%

名詞解釋：CiteScore 是衡量期刊所發(fā)表文獻的平均受引用次數(shù)，是在 Scopus 中衡量期刊影響力的另一個指標(biāo)。當(dāng)年CiteScore 的計算依據(jù)是期刊最近4年（含計算年度）的被引次數(shù)除以該期刊近四年發(fā)表的文獻數(shù)。例如，2022年的 CiteScore 計算方法為：2022年的 CiteScore =2019-2022年收到的對2019-2022年發(fā)表的文件的引用數(shù)量÷2019-2022年發(fā)布的文獻數(shù)量注：文獻類型包括：文章、評論、會議論文、書籍章節(jié)和數(shù)據(jù)論文。

Japanese Journal Of Applied Physics中科院評價數(shù)據(jù)

中科院 2023年12月升級版

Top期刊	綜述期刊	大類學(xué)科		小類學(xué)科
否	否	物理與天體物理	4區(qū)	PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用	4區(qū)

中科院 2022年12月升級版

Top期刊	綜述期刊	大類學(xué)科		小類學(xué)科
否	否	物理與天體物理	4區(qū)	PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用	4區(qū)

中科院 2021年12月舊的升級版

Top期刊	綜述期刊	大類學(xué)科		小類學(xué)科
否	否	物理與天體物理	4區(qū)	PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用	4區(qū)

中科院 2021年12月基礎(chǔ)版

Top期刊	綜述期刊	大類學(xué)科		小類學(xué)科
否	否	物理	4區(qū)	PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用	4區(qū)

中科院 2021年12月升級版

Top期刊	綜述期刊	大類學(xué)科		小類學(xué)科
否	否	物理與天體物理	4區(qū)	PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用	4區(qū)

中科院 2020年12月舊的升級版

Top期刊	綜述期刊	大類學(xué)科		小類學(xué)科
否	否	物理與天體物理	4區(qū)	PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用	4區(qū)

Japanese Journal Of Applied Physics JCR評價數(shù)據(jù)（2023-2024年最新版）

按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū)	收錄子集	分區(qū)	排名	百分位
學(xué)科：PHYSICS, APPLIED	SCIE	Q3	134 / 179	25.4%

按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)	收錄子集	分區(qū)	排名	百分位
學(xué)科：PHYSICS, APPLIED	SCIE	Q4	140 / 179	22.07%

Japanese Journal Of Applied Physics歷年數(shù)據(jù)統(tǒng)計

影響因子

中科院分區(qū)

Japanese Journal Of Applied Physics中國學(xué)者發(fā)文選摘

1、Core and filamentary damage of fused silica induced by nanosecond laser at 1064 nm
Author: Zhang, Fawang; Wang, Biyi; Liu, Xinyi; Xu, Man; Liu, Hufeng; Miao, Xinxiang; Lu, Tao; Qiu, Rong; Guo, Decheng; Zhou, Qiang; Jiang, Yong

Journal: JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2023; Vol. 62, Issue 1, pp. -. DOI: 10.35848/1347-4065/aca3e4
2、Improved performance of enhancement-mode GaN MIS-FET based on a self-terminating gate recess etching technique with in situ NH3 pre-treatment
Author: Zhang, Bin; Wang, Jinyan; Li, Mengjun; Huang, Chengyu; He, Jiayin; Wang, Xin; Wang, Chen; Wang, Hongyue; Mo, Jianghui; Wang, Maojun; Wu, Wengang

Journal: JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2023; Vol. 62, Issue 1, pp. -. DOI: 10.35848/1347-4065/aca3e3
3、2D scalar wave modelling of apodized RF BAW resonators for transverse mode analysis
Author: Wu, Ting; He, Yi-wen; Wong, Yu-po; Li, Wuping; Bao, Jing-fu; Hashimoto, Ken-ya

Journal: JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2023; Vol. 62, Issue 1, pp. -. DOI: 10.35848/1347-4065/aca5d8
4、Electrical and optical properties of highly crystalline W-VO2 nano-films prepared by thermal oxidation of V-WO3 precursors
Author: Luo, Jie; Gong, Mengtao; Tian, Shouqin; Zhou, Lincan; Zheng, Tao; Zhao, Xiujian; Liu, Baoshun

Journal: JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2023; Vol. 62, Issue 1, pp. -. DOI: 10.35848/1347-4065/acae68
5、Investigation of PVT variation on single-event transient effect assisted with hardened layout techniques
Author: Liang, Bin; Luo, Deng; Sun, Qian; Chen, Yanrong; Zhang, Kangkai; Chen, Wangyong

Journal: JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2023; Vol. 62, Issue 1, pp. -. DOI: 10.35848/1347-4065/aca7a6
6、TO1 soft mode in Fe doped beta-Ga2O3 studied by terahertz time-domain spectroscopy
Author: Jiang, Hao; Wang, Ke; Gong, Chen; Murakami, Hironaru; Tonouchi, Masayoshi

Journal: JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2023; Vol. 62, Issue 1, pp. -. DOI: 10.35848/1347-4065/acae52
7、Influence of anti-phase surface relief structure on optical mode and laser output power for 450 nm GaN-based VCSELs
Author: Gao, Yuanbin; Chu, Chunshuang; Hang, Sheng; Zhang, Yonghui; Zhou, Jianwei; Zhang, Zi-Hui

Journal: JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2023; Vol. 62, Issue 1, pp. -. DOI: 10.35848/1347-4065/acaba0
8、Heterogeneous integration of lithium tantalate thin film on quartz for high performance surface acoustic wave resonator
Author: Chen, Yang; Wu, Jinbo; Zhao, Xiaomeng; Li, Zhongxu; Ke, Xinjian; Zhang, Shibin; Zhou, Min; Huang, Kai; Ou, Xin

Journal: JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2023; Vol. 62, Issue 1, pp. -. DOI: 10.35848/1347-4065/aca5d7